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J-GLOBAL ID：200903071043958887
電子線描画装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992008837
Publication number (International publication number)：1993198488
Application date： Jan. 22, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：
【要約】【目的】 一括転写の精度を向上した電子線描画装置を提供する。【構成】 一括転写用マスク内の開口部の形状情報と、試料台上のマーカに一括転写電子ビ-ムを二次元走査して得られる上記一括転写電子ビ-ムの形状情報と記憶して比較し、この比較結果に応じて上記一括転写電子ビ-ムの縮小率と、回転角度とを調整する。このため、二つの形状情報内のビットマップ図形の重心を一致させて両ビットマップ図形の重なりの不一致を検出した場合には、二つのビットマップ図形面積比により縮小レンズを制御し、さらに、ビットマップ図形の一方を回転した際の両ビットマップ図形の重なり不一致度より回転レンズを制御する。
Claim (excerpt)：
一括転写用マスク内の複数の開口部の一つを選択してその全面に電子線を照射する手段と、上記開口部を通過した一括転写電子ビ-ムの形状を縮小する手段と、上記一括転写電子ビ-ムを回転する手段と、上記一括転写電子ビ-ムを偏向する手段と、試料を搭載する試料台と、上記試料台上に設けたマーカと、上記マ-カが発生する電子線検知信号を検出する検出器とを備えた電子線描画装置において、上記一括転写用マスク内の開口部の形状を記憶する手段と、上記マーカ上に上記一括転写電子ビ-ムを二次元走査して得られる上記一括転写電子ビ-ムの形状情報を出力デ-タとして記憶する手段と、上記入力デ-タと出力デ-タを比較する手段と、上記比較手段の比較結果に応じて上記一括転写電子ビ-ムの縮小手段と、同回転手段を制御する手段とを備えたことを特徴とする電子線描画装置。
FI (2)：
H01L 21/30 341 E
, H01L 21/30 341 M
