Pat
J-GLOBAL ID:200903071044352974
磁気記録媒体の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995206935
Publication number (International publication number):1997054950
Application date: Aug. 14, 1995
Publication date: Feb. 25, 1997
Summary:
【要約】【課題】 高い媒体SN比を実現するために必須な極めて微細な組成分離構造を有する磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】 発散形の磁界の中に備えられたプラズマ生成室にプラズマ用ガスおよびマイクロ波を導入して電子サイクロトロン共鳴により該プラズマ生成室にプラズマを生成する工程と、前記磁界により前記プラズマ生成室のプラズマ引き出し窓から前記プラズマを成膜室に引き出す工程と、この引き出されたプラズマ流を囲むように同軸状に配置されたCoCr系合金からなるターゲットを前記プラズマでスパッタすることにより、前記成膜室に設置した基板上に薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記プラズマ室から引き出されたプラズマの一部を前記基板に照射することとし、そのプラズマイオン照射量を0.5mA/cm2 以下に設定する。
Claim (excerpt):
発散形の磁界の中に備えられたプラズマ生成室にプラズマ用ガスおよびマイクロ波を導入して電子サイクロトロン共鳴により該プラズマ生成室にプラズマを生成する工程と、前記発散形の磁界により、前記プラズマ生成室のプラズマ引き出し窓から前記プラズマを成膜室に引き出す工程と、前記引き出されたプラズマ流を囲むように同軸状に配置されたCoCr系合金からなるターゲットを前記プラズマでスパッタすることにより、前記成膜室に設置した基板上に薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記プラズマ生成室から引き出されたプラズマの一部を前記基板に照射することとし、そのプラズマイオン照射量を0.5mA/cm2 以下に設定することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (4):
G11B 5/85
, C23C 14/34
, C23C 14/35
, G11B 5/66
FI (4):
G11B 5/85 C
, C23C 14/34 R
, C23C 14/35 F
, G11B 5/66
Return to Previous Page