欠陥検査装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995240794
Publication number (International publication number)：1997061371
Application date： Aug. 25, 1995
Publication date： Mar. 07, 1997
Summary：

【要約】【課題】位相シフターの欠陥と光透過性の異物を検出できる欠陥検査装置を得ることを目的とする。【解決手段】透過型と反射型の2つの微分干渉顕微鏡系を設ける。透過型の微分干渉顕微鏡の検光子を例えば偏光ビームスプリッタとして、ビームスプリッタの透過光と反射光を検出し、検出信号を得る。2つの検出信号の相対強度を調整し、それらの差動出力を得る。反射型も同様にして差動出力を得る。そして2つの信号の相対強度を調整する。調整後の2つの信号の差に基づいて欠陥を検出する。

Claim (excerpt)：

基板上の欠陥を検査する欠陥検査装置において、光源からの第1の光線を前記基板に向ける光学系と;前記第1の光線を第1の偏光状態と第2の偏光状態の2つの直線偏光であって、所定の角度または間隔をなす光線に分離する分離光学系と;前記2つの直線偏光の間の位相差を調整する位相差調整機構と;前記2つの直線偏光の光線を集光し、前記基板内の所定領域内で2つの被照射点を形成する第1対物レンズと;前記2つの被照射点と前記基板とを相対移動させる走査装置と;前記基板から透過方向に発生する少なくとも前記第1と第2の偏光状態の光線を屈折する第2対物レンズと;前記第2対物レンズを通過した前記第1と第2の偏光状態の光線を合成する合成光学系と;前記基板で反射された前記第1と第2の偏光状態の光線は前記第1対物レンズを介して前記分離光学系に再び入射することで合成され、該合成された光を通過させ第3の偏光状態の光線とする第1光学素子と;前記合成光学系で合成された光線を通過させ第4の偏光状態の光線とする第2光学素子と;前記第3の偏光状態の光を第5の偏光状態の光線と第6の偏光状態の光線とに分離する第1偏光分離光学系と;前記第4の偏光状態の光を第7の偏光状態の光線と第8の偏光状態の光線とに分離する第2偏光分離光学系と;前記第5の偏光状態の光線を光電変換し、第1信号を出力する第1光電変換素子と;前記第6の偏光状態の光線を光電変換し、第2信号を出力する第2光電変換素子と;前記第7の偏光状態の光線を光電変換し、第3信号を出力する第3光電変換素子と;前記第8の偏光状態の光線を光電変換し、第4信号を出力する第4光電変換素子と;前記第2信号の強度を調整する第1信号強度調整回路と;前記第4信号の強度を調整する第2信号強度調整回路と;第1信号と前記調整された第2信号との信号強度の差である第1差信号を生成する第1差信号生成回路と;第3信号と前記調整された第4信号との信号強度の差である第2差信号を生成する第2差信号生成回路と;前記第1差信号と第2差信号との少なくとも一方の信号強度を調整する第3信号強度調整回路と;前記2つの信号の少なくとも一方の信号強度を調整した後、前記第1差信号と前記第2差信号との差である第3差信号を生成する第2差信号生成回路と;前記第3差信号を所定の閾値と比較することにより2値化し、2値化信号を出力する2値化回路と;前記2値化信号に基づいて、前記欠陥を検出する判定回路とを有することを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (4)：

G01N 21/88 , G01N 21/23 , G01N 21/27 , G06T 7/00

FI (4)：

G01N 21/88 E , G01N 21/23 , G01N 21/27 A , G06F 15/62 405 A

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