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J-GLOBAL ID：200903071073515203
減圧処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994304482
Publication number (International publication number)：1996162451
Application date： Dec. 08, 1994
Publication date： Jun. 21, 1996
Summary：
【要約】【目的】 チャンバー内での原料ガスの再液化を防げ、また原料ガスの再液化による排気ポンプへの悪影響を防止できる減圧処理装置を提供すること。【構成】 減圧処置装置1は、チャンバー2内に試料としてのウエハ20用の保持台3が設置されており、チャンバー2には液体物質を気化させてなる原料ガスの第1導入管4が接続されている。この第1導入管4は、チャンバー2内における保持台3の上に先端開口4aを配置しており、また第1導入管4の先端開口4aと保持台3との間には、原料ガス用の筒状のガイド7が配置されている。このガイド7は、保持台3側の開口が該保持台3の上面に臨んで設けられたもので、さらにガイド7には、該ガイド7を所定の温度に加熱するための加熱手段であるヒータ9が設けられている。
Claim (excerpt)：
液体物質を気化させてなる原料ガスを減圧状態のチャンバー内に導入して、該チャンバー内に配置した試料表面を処理する減圧処理装置において、前記チャンバー内に設置された前記試料用の保持台と、前記チャンバー内における前記保持台の上に先端開口を配置した状態で前記チャンバーに接続された前記原料ガスの導入管と、前記導入管の先端開口と前記保持台との間に配置され、かつ前記保持台側の開口が該保持台の上面に臨んで設けられた前記原料ガス用の筒状のガイドと、該ガイドに設けられて前記ガイドを所定の温度に加熱するための加熱手段とを備えていることを特徴とする減圧処理装置。
IPC (5)：
H01L 21/316
, C23C 16/50
, C30B 25/14
, H01L 21/205
, H01L 21/22 501
