高分子多孔質体の製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000349085
Publication number (International publication number)：2002146084
Application date： Nov. 16, 2000
Publication date： May. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】空隙率や細孔径などのポア構造を制御することが容易で、洗浄を必要とせず、しかも多孔質化剤を簡単に除去できる、工業的に有利な高分子多孔質体の製造方法を提供する。【解決手段】高分子溶液と凍結乾燥後に気体となる固体物質からなる多孔質化剤との混合物を凍結乾燥する。

Claim (excerpt)：

高分子溶液と、凍結乾燥後に気体となる固体物質からなる多孔質化剤との混合物を、凍結乾燥することを特徴とする高分子多孔質体の製造方法。

IPC (5)：

C08J 9/26 CER , C08J 9/26 CEZ , A61K 47/34 , A61L 27/00 , C08L101:00

FI (5)：

C08J 9/26 CER , C08J 9/26 CEZ , A61K 47/34 , A61L 27/00 Y , C08L101:00

F-Term (26)：

4C076BB32 , 4C076DD43 , 4C076EE24 , 4C076FF02 , 4C076GG06 , 4C081AB01 , 4C081AB11 , 4C081BA16 , 4C081CA172 , 4C081CB012 , 4C081DB03 , 4C081EA01 , 4C081EA12 , 4F074AA01 , 4F074AA02 , 4F074AA09 , 4F074AA13 , 4F074AA17 , 4F074AA24 , 4F074AA35 , 4F074AA48 , 4F074AA65 , 4F074BA32 , 4F074BA34 , 4F074CC28Y , 4F074CC30Y

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

高分子多孔質体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-168510 Applicant：ダイセル化学工業株式会社

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