投影露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992238121
Publication number (International publication number)：1993206007
Application date： Sep. 07, 1992
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】半導体素子のリソグラフィ工程で使われる通常のレチクルを投影露光する際、高解像度で大焦点深度が得られるとともに、照度均一性の優れた投影露光装置を得る。【構成】照明光学系内のフライアイレンズを2段構成にするとともに、照明光学系の光軸から偏心した複数の位置に中心がくるように、2段構成を保ったまま分離し、分離された2段フライアイレンズの夫々に照明光束を供給する。

Claim (excerpt)：

所定のパターンが形成されたマスクを、照明光学系を通した光源からの照明光で照射し、前記パターンの像を投影光学系を介して感光基板上に結像する投影露光装置において、前記照明光学系の光路中の前記マスクに対するフーリエ変換面、もしくはその近傍面内に射出側焦点面が配置されるとともに、前記照明光学系の光軸から偏心した複数の位置の夫々に中心が配置される複数の第1フライアイレンズと;該複数の第1フライアイレンズの夫々の入射端に対するフーリエ変換面、もしくはその近傍面内に射出側焦点面が配置されるとともに、前記第1フライアイレンズの夫々と対応して設けられる複数の第2フライアイレンズと;該複数の第2フライアイレンズの夫々に前記光源からの照明光束を分割して入射させる光分割器とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 311 S

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

特開平4-329623
特開平4-267515
特開昭58-147708

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