流体処理のための紫外線装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：梅田明彦
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995510699
Publication number (International publication number)：1997503432
Application date： Oct. 06, 1994
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：

【要約】紫外線水殺菌システムは、245〜265nMの波長を有する光を出力するように構成された紫外線ランプ14を軸線方向に有する細長い処理チャンバ10からなる。ランプ14の表面温度は、温度センサ21、22によって制御される送風器及び/又はヒータを通電することによって一定のレベルに維持される。マイクロプロセッサ28が、紫外線強度と曝露時間との積から、水に与えられた放射線量を計算する。紫外線の強度は、チャンバ10の側部に取付けられた光検出器ヘッド23を用いて測定される。光検出器ヘッド23は、波長245〜265nMの紫外光に対するセンサとして機能する逆バイアスをかけた真空フォトダイオードからなる。

Claim (excerpt)：

1)処理される流体に向けた放射線源を有する処理チャンバと、前記放射線源から出力される放射線の強度を測定する手段と、処理される前記流体が前記チャンバ内で放射線に曝露される時間の長さを測定する手段と、測定した前記放射線の強度の値と曝露時間の値とを用いて、処理される前記流体が受ける放射線の照射率を測定する手段とからなることを特徴とする流体処理システム。2)前記照射率の測定値を用いて流体流量バルブを制御することを特徴とする請求項1記載の流体処理システム。3)予め決定された前記処理チャンバの容積の値と前記流体流量の測定値とを用いて、前記曝露時間を計算するマイクロプロセッサを備えることを特徴とする請求項1又は2記載の流体処理システム。4)前記放射線源によって引き出される電流を監視するため、及び監視している電流が高過ぎるか又は低過ぎるかを決定するための手段を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の流体処理システム。5)放射線源の実行時間を監視するため、及びそれが作動している時間の長さを表示するため、又は前記放射線源の作動時間がその耐用年数を越えるまでに残存する時間の長さを表示するための手段を備えることを特徴とする請求項1乃至4いずれか記載の流体処理システム。6)前記放射線源が紫外線ランプからなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか記載の流体処理システム。7)前記紫外線ランプが245〜265nMの波長を有する光を放射することを特徴とする請求項6記載の流体処理システム。8)前記放射線監視手段が周波数245〜265nMの紫外光の出力を監視することを特徴とする請求項7記載の流体処理システム。9)前記ランプを実質的にその最適使用温度に維持するために、前記ランプの表面温度を監視し、かつ加熱又は冷却手段を作動させるための手段を備えることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか記載の流体処理システム。10)前記システムがその通常の動作パラメータの範囲外で作動していることが分かった時に作動するアラームを備えることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか記載の流体処理システム。11)最小許容放射率に達すると又は流体流量が所定の下限値以下に低下すると、前記流体の流路を別の処理チャンバに接続するように構成されていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか記載の流体処理システム。12)フォトダイオードと、前記フォトダイオードに逆バイアスを印加するため、及び前記フォトダイオードを流れる逆バイアス電流の大きさを監視することによって、前記フォトダイオードに入射する光の値を測定するための手段とからなることを特徴とする光検出装置。13)前記フォトダイオードが真空フォトダイオードからなることを特徴とする請求項12記載の光検出装置。14)前記真空フォトダイオードがCsTe光電性カソードを有することを特徴とする請求項13記載の光検出装置。15)前記フォトダイオードが高い入力インピーダンスを有する回路に接続されていることを特徴とする請求項12乃至14のいずれか記載の光検出装置。16)前記フォトダイオードが、その外面に比較的低付着性材料を有する透明壁からなるハウジング内に取付けられていることを特徴とする請求項12乃至15のいずれか記載の光検出装置。17)前記材料がフルオロカーボン重合体からなることを特徴とする請求項16記載の光検出装置。18)処理しようとする流体の流路と、前記流路の透明壁を介して前記流路内の前記流体に光を放射するための光源と、前記光源に向けて空気又は他の流体の流れを送る手段と、前記光源に連関する温度検知手段と、前記温度検知手段に応答して前記光源への前記空気又は他の流体の流れを制御することにより、前記光源の温度を安定化させる制御手段とからなることを特徴とする流体処理装置。19)前記光源に向けて空気又は他の流体の流れを送る前記手段が、前記空気又は他の流体を加熱するための加熱手段を有することを特徴とする請求項18記載の流体処理装置。20)前記制御手段が、前記温度検知手段に応答して前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項19記載の流体処理装置。21)前記光源が冷却を必要とする時に前記加熱手段を通電せずに前記光源に向けて空気又は他の流体の流れを送る送風器を備え、前記光源が加熱を必要とする時に、前記加熱手段を通電して前記空気又は他の流体の流れを暖めることを特徴とする請求項19又は20記載の流体処理装置。22)前記光源が、前記空気又は他の流体が流れるダクト内に配置されていることを特徴とする請求項18乃至21のいずれか記載の流体処理装置。23)前記光源が水銀アーク紫外線ランプからなることを特徴とする請求項18乃至22のいずれか記載の流体処理装置。24)前記空気の流れが循環することを特徴とする請求項18乃至23のいずれか記載の流体処理装置。

IPC (3)：

C02F 1/32 , B01J 19/12 , G01J 1/02

FI (3)：

C02F 1/32 , B01J 19/12 C , G01J 1/02 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開平2-229591
測光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-032715 Applicant：株式会社日鉱共石
特表昭61-502349

Return to Previous Page