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J-GLOBAL ID：200903071100758105

測距装置及び測距方法

Inventor：
沢地 洋一

About 沢地 洋一


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (4)： 千葉 剛宏 ,  宮寺 利幸 ,  鹿島 直樹 ,  田久保 泰夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007077872
Publication number (International publication number)：2008241259
Application date： Mar. 23, 2007
Publication date： Oct. 09, 2008
Summary：
【課題】変調光の出射から変調光の1周期以上遅延して反射光(遅延反射光)が到達しても正確に距離に測定できるようにして、距離測定の高精度化を図る。【解決手段】第1測距装置は、強度変調された変調光12を出射する発光手段14と、変調光12により照射された被検出物16からの反射光18を受光する受光手段20と、変調光12と反射光18の位相差から被検出物16までの距離を算出する演算手段22と、ゲート制御部80とを有する。ゲート制御部80は、ゲートパルスを出力して、被検出物16に対して変調光12を間欠に照射するように発光制御部26を制御し、変調光12の間欠照射に基づいて、被検出物16からの反射光18の受光を間欠に制御するように電気光学シャッタあるいは撮像素子28の電子シャッタを制御する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
強度変調された変調光を出射する発光手段と、 前記変調光により照射された被検出物からの反射光を受光する受光手段と、 前記変調光と前記反射光の位相差から前記被検出物までの距離を算出する演算手段とを有する測距装置において、 前記被検出物に対して前記変調光を間欠に照射するように制御する間欠照射制御手段と、 前記間欠照射制御手段による前記変調光の間欠照射に基づいて、前記被検出物からの前記反射光の受光を間欠に制御する間欠受光制御手段とを有し、 前記演算手段は、前記間欠に制御して受光した情報に基づいて前記被検出物までの距離を補正する補正部を有することを特徴とする測距装置。
IPC (5)：
G01S 17/36 ,  G01C 3/06 ,  G01S 17/89 ,  G02B 7/28 ,  G02B 7/40
FI (7)：
G01S17/36 ,  G01C3/06 120Q ,  G01C3/06 140 ,  G01S17/89 ,  G02B7/11 N ,  G02B7/11 F ,  G02B7/11 H
F-Term (42)：
2F112AD01 ,  2F112BA07 ,  2F112BA12 ,  2F112CA12 ,  2F112DA04 ,  2F112DA21 ,  2F112DA26 ,  2F112DA28 ,  2F112DA32 ,  2F112EA03 ,  2F112EA11 ,  2F112FA03 ,  2F112FA07 ,  2F112FA21 ,  2F112FA35 ,  2F112FA45 ,  2F112GA01 ,  2H051BB28 ,  2H051CC05 ,  5J084AA05 ,  5J084AD02 ,  5J084AD05 ,  5J084BA02 ,  5J084BA05 ,  5J084BA20 ,  5J084BA40 ,  5J084BB02 ,  5J084BB35 ,  5J084CA04 ,  5J084CA07 ,  5J084CA12 ,  5J084CA19 ,  5J084CA49 ,  5J084CA65 ,  5J084CA67 ,  5J084CA70 ,  5J084DA01 ,  5J084DA07 ,  5J084DA08 ,  5J084DA09 ,  5J084EA01 ,  5J084EA11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 距離画像センサ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-290604   Applicant：松下電工株式会社
Cited by examiner (8)
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