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J-GLOBAL ID:200903071135689130

重合メディエイター及びポリスチレン製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大野 彰夫 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000206106
Publication number (International publication number):2001081076
Application date: Jul. 07, 2000
Publication date: Mar. 27, 2001
Summary:
【要約】【課題】 ラジカル重合反応をメディエイトするN-オキシル化合物、及び、摂氏70度乃至90度の反応温度でリビング的に進行するラジカル重合反応によるポリスチレンの製造方法を提供する。【解決手段】 スチレンを過酸化ベンゾイル及び式(I)【化1】で表わされる2,6-ジスピロ-1’,1”-ジシクロヘキシル-4-ヒドロキシピペリジン-N-オキシル化合物の存在下にラジカル重合させることを特徴とするポリスチレン製造方法。
Claim (excerpt):
式(I)【化1】で表わされるN-オキシル化合物。
IPC (4):
C07D221/20 ,  C08F 2/38 ,  C08F 4/34 ,  C08F 12/08
FI (4):
C07D221/20 ,  C08F 2/38 ,  C08F 4/34 ,  C08F 12/08

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