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J-GLOBAL ID:200903071135770574

エキシマ紫外線ランプを用いた浄水処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997136236
Publication number (International publication number):1998323663
Application date: May. 27, 1997
Publication date: Dec. 08, 1998
Summary:
【要約】【課題】 オゾン処理と活性炭処理を用いた高度浄水過程、及び前塩素処理を採用した浄水過程で生成する臭素酸イオンを効率的に除去することができる浄水処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 エキシマ紫外線処理槽5内にピーク波長が190(nm)から200(nm)の波長域を有するエキシマ紫外線ランプ5aを配置して、被処理水にエキシマ紫外線を照射することによって臭素酸イオンを除去するようにしたエキシマ紫外線ランプを用いた浄水処理方法を基本手段とする。具体的な装置例として、オゾン接触槽1と活性炭処理槽4及びエキシマ紫外線処理槽5とを備え、オゾン接触槽1で被処理水中にオゾンを放散した後に活性炭処理槽4に流入させて活性炭処理を行い、更にエキシマ紫外線処理槽5で前記エキシマ紫外線を照射することによってオゾン処理時に発生する臭素酸イオンを除去する。
Claim (excerpt):
処理槽内にピーク波長が190(nm)から200(nm)の波長域を有するエキシマ紫外線ランプを配置して、被処理水にエキシマ紫外線を照射することによって臭素酸イオンを除去することを特徴とするエキシマ紫外線ランプを用いた浄水処理方法。
IPC (4):
C02F 1/32 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/78
FI (4):
C02F 1/32 ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/58 L ,  C02F 1/78

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