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J-GLOBAL ID:200903071136173790

ラジカル重合における立体規則性の制御方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000340535
Publication number (International publication number):2002145914
Application date: Nov. 08, 2000
Publication date: May. 22, 2002
Summary:
【要約】【課題】 不飽和カルボン酸およびその誘導体の重合体をラジカル重合により製造する方法であって、得られる重合体の立体規則性を効果的に制御できる安価な方法を提供する。【解決手段】 次の一般式(I)MIIIX3 (I)(式中、MIIIはスカンジウム、イットリウム、およびランタノイド系金属から選択される中心金属であり、Xはハロゲン原子またはトリフルオロメタンスルホン酸を示す)または一般式(II)HfY4 (II)(式中、Yはハロゲン原子を示す)で表わされる金属ルイス酸存在下で、不飽和カルボン酸またはその誘導体をモノマーとしてラジカル重合する。
Claim (excerpt):
不飽和カルボン酸またはその誘導体の重合体における立体規則性を制御する方法であって、次の一般式(I)MIIIX3 (I)(式中、MIIIはスカンジウム、イットリウム、およびランタノイド系金属からなる群より選択される中心金属であり、Xはハロゲン原子またはトリフルオロメタンスルホン酸を示す)で表わされる金属ルイス酸の存在下で、不飽和カルボン酸またはその誘導体をモノマーとしてラジカル重合する重合体の立体規則性の制御方法。
IPC (2):
C08F 2/38 ,  C08F 20/00
FI (2):
C08F 2/38 ,  C08F 20/00
F-Term (8):
4J011AA05 ,  4J011NA34 ,  4J011NB04 ,  4J011NB06 ,  4J011PA04 ,  4J011PA06 ,  4J011PB40 ,  4J011PC02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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