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J-GLOBAL ID:200903071152588534

高耐食性表面処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 唐木 貴男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994029417
Publication number (International publication number):1995238362
Application date: Feb. 28, 1994
Publication date: Sep. 12, 1995
Summary:
【要約】【目的】 密着性と耐食性に優れた被処理物である動・静翼の表面に、Al又はAl-Siを高濃度とする溶射層を形成する。【構成】 被処理物である動・静翼に対し、第1層としてCoCrAlY又はCoNiCrAlY合金を低圧プラズマ溶射(VPS)にて溶射すると共に、溶射層の表面からAl溶射浸透又はAl-Siスラリ塗布後、所定の熱処理を施すことにより得られるMCrAlY溶射層2の表面に、高濃度のAl拡散浸透処理層又はAl-Si拡散浸透処理層1を形成する。
Claim (excerpt):
被処理物である動・静翼に対し、第1層としてCoCrAlY又はCoNiCrAlY合金を低圧プラズマ溶射(VPS)にて溶射すると共に、溶射層の表面からAl拡散浸透又はAl-Siスラリ塗布後、所定の熱処理を施すことにより得られるMCrAlY溶射層表面にAl又はAl-Siを高濃度とすることを特徴とする高耐食性表面処理方法。
IPC (2):
C23C 4/18 ,  C23C 4/08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特公昭61-010034
  • 特開平3-120350

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