Pat
J-GLOBAL ID:200903071179601087

制御系解析・設計装置および制御系解析・設計処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小笠原 吉義 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998130019
Publication number (International publication number):1999328239
Application date: May. 13, 1998
Publication date: Nov. 30, 1999
Summary:
【要約】【課題】 LMIおよびBMIに基づく制御系解析・設計装置に関し,制御系の解析および構造設計等で重要となるLMIおよびBMIに定式化可能な問題について,パラメータ付きの場合および解集合が非凸の場合にも解を求めることができるようにすることを目的とする。【解決手段】与えられた問題を半正定値計画(SDP)問題または拡張半正定値計画(ESDP)問題として定式化し,LMIまたはBMIとして表現された制約を,不等式を論理和で繋げた形の制約に変形し,SDP/ESDP問題を一階述語論理式に変換し,限定記号消去(QE)法を利用することによって,数式処理により解析的に解を求める。
Claim (excerpt):
線形行列不等式または双線形行列不等式として表現できる種々の設計仕様や制約を持つ制御系の解析・設計のための計算機システムであって,前記設計仕様や制約を線形行列不等式または双線形行列不等式として定式化した情報を保持する手段と,制御系を半正定値計画問題または拡張半正定値計画問題として定式化する初期設定手段と,前記線形行列不等式または双線形行列不等式として表現された制約を,不等式を論理和で繋げた形の制約に変形し,前記制御系を一階述語論理式に変換する数式処理手段と,前記一階述語論理式における限定記号の付いた変数を消去する限定記号消去処理手段と,前記限定記号の付いた変数を消去した式から前記制御系を解析する手段とを備えることを特徴とする制御系解析・設計装置。
IPC (2):
G06F 17/50 ,  G05B 13/02
FI (3):
G06F 15/60 612 G ,  G05B 13/02 K ,  G05B 13/02 T

Return to Previous Page