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J-GLOBAL ID：200903071202257186

化粧料

Inventor： 松川 伸也
Applicant, Patent owner： 有限会社松川化学
Agent (2)： 天野 広 ,  佐藤 賢改
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004149470
Publication number (International publication number)：2005330217
Application date： May. 19, 2004
Publication date： Dec. 02, 2005
Summary：

【課題】 リンゴポリフェノールを高濃度に含有しても充分に抗菌作用を有し、皮膚に優しい安全性に優れた化粧料を提供すること。【解決手段】 リンゴポリフェノールと、戸室石から抽出した抽出物と、を含有する化粧料を提供する。特に、リンゴポリフェノールを25重量%以上含有する化粧料を提供する。

Claim (excerpt)：

リンゴポリフェノールと、戸室石から抽出した抽出物と、を含有する化粧料。

IPC (4)：

A61K7/00 ,  A61K7/11 ,  A61K7/48 ,  A61K7/50

FI (5)：

A61K7/00 C ,  A61K7/00 K ,  A61K7/11 ,  A61K7/48 ,  A61K7/50

F-Term (28)：

4C083AA122 ,  4C083AA161 ,  4C083AA162 ,  4C083AB332 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC092 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC172 ,  4C083AC242 ,  4C083AC471 ,  4C083AC472 ,  4C083AC642 ,  4C083AC692 ,  4C083AC782 ,  4C083AD222 ,  4C083AD512 ,  4C083AD532 ,  4C083CC05 ,  4C083CC25 ,  4C083CC32 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083EE12 ,  4C083EE16 ,  4C083EE18

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 化粧品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-342603   Applicant：ニッカウヰスキー株式会社

Cited by examiner (2)

• 化粧品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-342603   Applicant：ニッカウヰスキー株式会社
• 戸室石の溶媒抽出液を含有する化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-109652   Applicant：有限会社松川化学