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J-GLOBAL ID：200903071246498490

プラズマ発生装置およびその運転方法

Inventor：
榊原 康史

About 榊原 康史

, 
虎口 信

About 虎口 信


Applicant, Patent owner：
富士電機株式会社

About 富士電機株式会社


Agent (1)： 篠部 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999328116
Publication number (International publication number)：2001143896
Application date： Nov. 18, 1999
Publication date： May. 25, 2001
Summary：
【要約】【課題】プラズマ入力パワーの精密な制御が可能で高稼働率での運転が可能なコンパクトで低コストの装置を得る。【解決手段】被処理物を載置するステージを内蔵する反応容器2の絶縁性材料よりなる窓の外側に配した高周波誘導コイル8に高周波電源20を接続して反応容器2の内部にプラズマを発生させるものにおいて、高周波電源20と高周波誘導コイル8との間に、1個の一次巻線24aと2個の二次巻線24b,24cからなる整合トランス24を有する整合回路23を備え、スイッチ25、26、27、28の操作により、高周波誘導コイル8とステージとの間に高電圧を印加する回路と高周波誘導コイル8に高周波電流を通流する回路を切替える。
Claim (excerpt)：
被処理物を載置するステージを内部に収納する金属製の反応容器の器壁の一部に絶縁性材料よりなる窓を設置し、該窓の外側に水冷可能な平板状コイルよりなる高周波電極を配置し、該高周波電極に高周波電源を接続して反応容器の内部に低気圧プラズマを生じるプラズマ発生装置において、高周波電極と前記ステージとの間に高周波電圧を印加する回路と高周波電極に高周波電流を通流する回路が切替え可能な整合回路が、高周波電源と高周波電極との間に備えられていることを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (8)：
H05H 1/46 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/507 ,  C23F 4/00 ,  G21F 9/30 551 ,  G21F 9/30 571 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (9)：
H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 R ,  B01J 19/08 E ,  C23C 16/507 ,  C23F 4/00 A ,  G21F 9/30 551 A ,  G21F 9/30 571 Z ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B
F-Term (31)：
4G075AA22 ,  4G075AA24 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BC06 ,  4G075CA02 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075EB01 ,  4K030FA04 ,  4K030JA16 ,  4K030KA26 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41 ,  4K057DA16 ,  4K057DD01 ,  4K057DM28 ,  4K057DM40 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BC08 ,  5F004BD01 ,  5F004CA03 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26 ,  5F045AA08 ,  5F045BB10 ,  5F045EH11 ,  5F045EH19 ,  5F045GB08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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