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J-GLOBAL ID：200903071259573980

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 丹 史郎 ,  河辺 保雅 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993085856
Publication number (International publication number)：1994301203
Application date： Apr. 13, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 特に半導体デバイスの製造において、高解像力・アスペクト比が高く側壁が垂直に近い断面形状・及び広い現像ラチチュードを有し、耐熱性に優れ、マスク寸法の再現性が良いポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、下記一般式(1)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5- (及び/又は-4-)スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする。【化1】ここで、R:水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数1〜6のアルキル基、アリール基もしくはアルケニル基、R1〜R15:同一でも異なっていても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、または置換もしくは未置換の環状アルキル基を表す。但し、少なくとも1つは水酸基であり、更に、少なくとも1つは置換もしくは未置換の環状アルキル基である、を表す。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表されるポリヒドロキ シ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R:水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数1〜6のアルキル基、アリール基もしくはアルケニル基、R1〜R15:同一でも異なっていても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、または置換もしくは未置換の環状アルキル基を表す。但し、少なくとも1つは水酸基であり、更に、少なくとも1つは置換もしくは未置換の環状アルキル基である、を表す。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027