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J-GLOBAL ID:200903071260014404

プラズマ発生方法、プラズマ発生装置及びプラズマ反応によるガス処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西山 恵三 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000015675
Publication number (International publication number):2000348896
Application date: Jan. 25, 2000
Publication date: Dec. 15, 2000
Summary:
【要約】【課題】 大気圧下において、安定かつ均一なグロー放電を極めて小さい印加電圧で発生させる。【解決手段】 交流電源に接続される電極4と接地電極5とからなる電極対を有するプラズマ発生装置において、前記電極対の間にチタン酸バリウムを有する無機誘電体8が充填されており、前記電極対の間に交流電界を印加することにより大気圧下でグロー放電を発生させる。
Claim (excerpt):
交流電源に接続される電極と接地電極とからなる電極対を有するプラズマ発生装置において、前記電極対の間にチタン酸バリウムを主成分とする無機誘電体が充填されていることを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (2):
H05H 1/24 ,  H05H 1/46
FI (2):
H05H 1/24 ,  H05H 1/46 M

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