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J-GLOBAL ID：200903071282669943

有機ハロゲン化合物の除去方法および除去装置

Inventor：
川井 隆夫

About 川井 隆夫

, 
小倉 正裕

About 小倉 正裕


Applicant, Patent owner：
株式会社神鋼環境ソリューション

About 株式会社神鋼環境ソリューション


Agent (4)： 藤本 昇 ,  薬丸 誠一 ,  中谷 寛昭 ,  岩田 徳哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004153341
Publication number (International publication number)：2005334699
Application date： May. 24, 2004
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：
【課題】 有機ハロゲン化合物に汚染された被処理物から有機ハロゲン化合物を除去するに際し、処理後の被処理物に含まれる有機ハロゲン化合物の濃度をより一層低下させることを一の課題とする。 【解決手段】 有機ハロゲン化合物に汚染された被処理物から有機ハロゲン化合物を除去する方法であって、被処理物を還元雰囲気中で加熱処理する還元処理工程を備え、さらに該還元処理工程の後に、少なくとも前工程の還元雰囲気が流入しないように分離された還元雰囲気中で被処理物を加熱処理する他の還元処理工程を1以上備えることを特徴とする有機ハロゲン化合物の除去方法による。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
有機ハロゲン化合物に汚染された被処理物から有機ハロゲン化合物を除去する方法であって、被処理物を還元雰囲気中で加熱処理する還元処理工程を備え、さらに該還元処理工程の後に、少なくとも前工程の還元雰囲気が流入しないように分離された還元雰囲気中で被処理物を加熱処理する他の還元処理工程を1以上備えることを特徴とする有機ハロゲン化合物の除去方法。
IPC (6)：
B09C1/06 ,  A62D3/00 ,  C02F11/06 ,  C07B35/06 ,  C07B37/06 ,  C07C25/18
FI (11)：
B09B3/00 303P ,  A62D3/00 360 ,  A62D3/00 370 ,  A62D3/00 620 ,  A62D3/00 651 ,  A62D3/00 654 ,  C02F11/06 B ,  C02F11/06 A ,  C07B35/06 ,  C07B37/06 ,  C07C25/18
F-Term (35)：
2E191BA12 ,  2E191BA13 ,  2E191BB00 ,  2E191BB01 ,  2E191BD12 ,  4D004AA02 ,  4D004AA41 ,  4D004AA46 ,  4D004AB06 ,  4D004AB07 ,  4D004AC05 ,  4D004CA04 ,  4D004CA15 ,  4D004CA22 ,  4D004CA32 ,  4D004CA36 ,  4D004CA37 ,  4D004CA40 ,  4D004CB04 ,  4D004CB28 ,  4D004CB32 ,  4D004CB34 ,  4D004CB45 ,  4D004CC02 ,  4D059AA00 ,  4D059BC01 ,  4D059BJ02 ,  4D059BK11 ,  4D059EB06 ,  4D059EB16 ,  4H006AA05 ,  4H006AC13 ,  4H006AC26 ,  4H006BD84 ,  4H006BE30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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