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J-GLOBAL ID：200903071321043747

高い第三次光非線形係数を有するJ会合体薄膜、それを用いた光学素子及びその製造方法

Inventor： 周 豪慎 ,  本間 格
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  周 豪慎 ,  本間 格
Agent (1)： 工業技術院電子技術総合研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998377260
Publication number (International publication number)：2000199919
Application date： Dec. 28, 1998
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】 極めて簡単なゾルゲル法によりシリカなどマトリックス中に高密度に室温で安定なJ会合体を均一にドープし、究めて高い第三次光非線形係数(χ(3))を有する薄膜の開発することにより光情報処理、演算、記録に基づくフォトニクス領域で使用できるデバイスに利用する。【解決手段】 マトリックスとしてシリカガラス(SiO2)が、またJ会合体の色素としてシアニン色素化合物がナノレベルで複合した有機・無機複合薄膜をゾルゲル法で作成する。膜はテトラエトキシオルソシリケイト(TEOS)を反応前駆体として用い、シアニン色素化合物を加えて、酸性条件で、加水分解反応で、シアニン色素/シリカのゾル溶液を調製し、基板上にスピンキャスティング法により安定なJ会合体/シリカ薄膜を形成させた。

Claim (excerpt)：

シリカガラスとシアニン色素化合物からなり、シアニン色素化合物がナノレベルでシリカガラス中で複合しているシアニン色素化合物のJ会合体。

F-Term (5)：

2K002CA15 ,  2K002CA22 ,  2K002CA23 ,  2K002FA08 ,  2K002HA22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 有機非線形光学素子及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-221768   Applicant：ソニー株式会社