Pat

J-GLOBAL ID：200903071364206402

超純水製造装置

Inventor： 知野 秀一 ,  中村 穰 ,  木暮 雅彦
Applicant, Patent owner： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996007207
Publication number (International publication number)：1997192658
Application date： Jan. 19, 1996
Publication date： Jul. 29, 1997
Summary：

【要約】【課題】超純水中のTOC濃度および溶存酸素濃度の増加と機器の劣化とをほぼ防止する超純水製造装置を提供すること。【解決手段】一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する第1の紫外線照射装置と、190nmを越える波長からなる紫外線を発生する第2の紫外線照射装置と、膜脱気装置と、ポリッシャー装置とを流路に沿って配置する、あるいはアニオン交換樹脂を充填した単床式イオン交換装置と、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、膜脱気装置と、ポリッシャー装置とを流路に沿って配置する、または180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、パラジウム触媒樹脂を充填した触媒樹脂装置と、ポリッシャー装置とを流路に沿って配置することを特徴とする超純水製造装置による。

Claim (excerpt)：

一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する第1の紫外線照射装置と、190nmを越える波長からなる紫外線を発生する第2の紫外線照射装置と、膜脱気装置と、ポリッシャー装置とを流路に沿って配置したことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (8)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 ,  B01D 61/02 500 ,  B01J 23/44 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/70

FI (8)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 H ,  B01D 61/02 500 ,  B01J 23/44 M ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/70 Z