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J-GLOBAL ID：200903071385879865

廃水の浄化処理方法及びその装置

Inventor： 浦嶋 敏充 ,  石田 文男 ,  笹沢 一雄 ,  熊倉 稔
Applicant, Patent owner： 太陽化学工業株式会社
Agent (1)： 佐野 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999097177
Publication number (International publication number)：2000288547
Application date： Apr. 05, 1999
Publication date： Oct. 17, 2000
Summary：

【要約】【目的】特に染料等を含有する着色廃水の処理に優れ、低濃度から高濃度まで幅広く、浄化処理されるべき物質を含有する廃水に対応可能な廃水の浄化処理方法及びその装置を提供する。【構成】廃水を対極として該廃水外に他方の電極を設け、該廃水の水面と該他方の電極との間にプラズマ放電を起こし、該廃水中にラジカルを発生させるプラズマ放電工程を有する廃水の浄化処理方法及びその装置。【効果】上記目的を達成する。

Claim (excerpt)：

廃水を対極として該廃水外に他方の電極を設け、該廃水の水面と該他方の電極との間にプラズマ放電を起こし、該廃水中に酸化能力のある活性種を発生させるプラズマ放電工程を有する廃水の浄化処理方法。

IPC (3)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72

FI (3)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/58 D ,  C02F 1/72 Z

F-Term (17)：

4D038AA08 ,  4D038AB03 ,  4D038BB10 ,  4D038BB16 ,  4D050AA13 ,  4D050AB03 ,  4D050BB20 ,  4D050CA10 ,  4D061DA08 ,  4D061DB20 ,  4D061DC03 ,  4D061EA01 ,  4D061EB01 ,  4D061EB14 ,  4D061EB19 ,  4D061EB29 ,  4D061ED20