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J-GLOBAL ID：200903071386315582

半導体レーザ

Inventor： 和田 貢 ,  福永 敏明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994122379
Publication number (International publication number)：1995335979
Application date： Jun. 03, 1994
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：

【要約】【目的】 層界面および層界面の上に成長する結晶が高品質となり、高出力発振下においても信頼性の高い半導体レーザを得る。【構成】 活性層5を2元以上のV族元素を含む組成とし、この活性層5を挟む光導波層4、6およびクラッド層3、7をV族元素およびIII 族元素を含む組成とし、上記光導波層4、6およびクラッド層3、7のV族元素の組成比を活性層5のV族元素の組成比と同じとする一方、該光導波層4、6およびクラッド層3、7のIII 族元素の組成比を変えることにより分離閉じ込めヘテロ構造を形成する。

Claim (excerpt)：

活性層が2元以上のV族元素を含む組成を有し、この活性層を挟む光導波層およびクラッド層がV族元素およびIII 族元素を含む組成を有し、前記光導波層およびクラッド層のV族元素の組成比が活性層のV族元素の組成比と同じとされる一方、該光導波層およびクラッド層のIII 族元素の組成比を変えることにより分離閉じ込めヘテロ構造が形成されたことを特徴とする半導体レーザ。

IPC (2)：

H01S 3/18 ,  H01L 33/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭63-197391
  
• 特開昭61-034987
  
• 特開平4-369850