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J-GLOBAL ID：200903071398240936

プラズマ化学蒸着装置

Inventor： 村田 正義 ,  竹内 良昭
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998149230
Publication number (International publication number)：1999340150
Application date： May. 29, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】従来と比べ良好な膜厚分布が得られることを課題とする。【解決手段】反応容器21と、該反応容器21に反応ガスを導入する手段と、記反応ガスを前記反応容器内から排出する手段と、前記反応容器21内に配置され、基板29を支持するヒータ内蔵アノード電極23と、該アノード電極23に対向して設置されたカソード電極22と、このカソード電極22に周波数30MHzないし200MHzのグロー放電発生用電力を供給する電源24とを有し、該電源24から供給された電力によりグロー放電を発生し、前記被処理物表面上に非晶質薄膜あるいは微結晶薄膜あるいは多結晶薄膜を形成するプラズマ化学蒸着装置において、前記カソード電極22と前記電源24を結ぶ給電点を4個以上とし、かつ前記給電電力を均等に分配する電力分配器60を用いることを特徴とするプラズマ化学蒸着装置。

Claim (excerpt)：

反応容器と、この反応容器に反応ガスを導入する手段と、前記反応ガスを前記反応容器内から排出する手段と、前記反応容器内に配置され、被処理物を支持するヒータ内蔵アノード電極と、このアノード電極に対向して設置されたカソード電極と、このカソード電極に周波数30MHzないし200MHzのグロー放電発生用電力を供給する電源とを有し、この電源から供給された電力によりグロー放電を発生し、前記被処理物表面上に非晶質薄膜あるいは微結晶薄膜あるいは多結晶薄膜を形成するプラズマ化学蒸着装置において、前記カソード電極と前記電源を結ぶ給電点を4個以上とし、かつ前記給電電力を均等に分配する電力分配器を用いることを特徴とするプラズマ化学蒸着装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 31/04

FI (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 31/04 V

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 表面処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-156968   Applicant：アネルバ株式会社