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J-GLOBAL ID：200903071403341363

複合分析装置

Inventor： 高橋 弘
Applicant, Patent owner： 株式会社エイコー・エンジニアリング
Agent (1)： 北條 和由
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991076886
Publication number (International publication number)：1993089817
Application date： Mar. 16, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 二次イオン質量分析(SIMS)及びイオン散乱分析(ISS)を複合することにより、試料の組成の同定を容易とし、定量性も可能であり、高感度で効率的な試料の分析を可能とする。【構成】 質量分析装置では、イオン源1からのイオンビームが照射され、これによって固体試料2の表面から散乱される散乱イオンは、入射レンズ部3と、アラインメント・デフレクター部4及び四重極質量分析計5等の二次イオン分離装置を介し、その後方側方に設けられた二次イオン検出器6と、あるいは、後方に配置された散乱イオン及び中性粒子検出器7に導入される。すなわち、行なわれる分析の種類によって二次イオン質量分析装置とイオン散乱分光装置とに切り替え、組成分析を行うことが可能となる。

Claim (excerpt)：

イオンビームを発生照射するイオン源と、上記イオン源から照射されるイオンビームにより固体試料表面から散乱する散乱イオン及び2次イオンを取り込む入射レンズ部と、上記入射レンズ部の後方に設けられ、入射された2次イオン及び散乱イオンの質量を分析する質量分析装置と、得られた散乱イオンからイオン散乱分光によって上記固体試料の組成分析を行うイオン散乱分光装置とを備えたことを特徴とする複合分析装置。

IPC (2)：

H01J 37/252 ,  H01J 49/42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭51-099094
  
• 特開昭63-096050
  
• 特開昭52-014481