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J-GLOBAL ID：200903071411244156

オゾン脱臭装置

Inventor： 渡辺 正典 ,  早矢仕 文男 ,  太宰 啓至
Applicant, Patent owner： 石川島播磨重工業株式会社
Agent (1)： 山田 恒光 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996328475
Publication number (International publication number)：1998165757
Application date： Dec. 09, 1996
Publication date： Jun. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 排水処理槽の臭気を効率よく取り除けるようにする。【解決手段】 オゾンを生成するオゾン発生器24と、汚水を処理する排水処理槽16の内方上部に配置され且つオゾンと水とを混合噴霧する霧化ノズル27と、オゾン発生器24により生成されるオゾンを霧化ノズル27へ送給する圧縮機25と、水を霧化ノズル27へ送給するポンプ26とを備え、霧化ノズル27から排水処理槽16の内部へ噴霧されるオゾン及び微細水粒によって汚水の液面を覆い、また、オゾン及び微細水粒の水分子により高活性なヒドロキシラジカルを生成して臭気成分を酸化し、排水処理槽16の外部への臭気の拡散を抑止する。

Claim (excerpt)：

オゾンを生成するオゾン発生器と、汚水を処理する排水処理槽の内方上部に配置され且つオゾンと水とを混合噴霧する霧化ノズルと、オゾン発生器により生成されるオゾンを霧化ノズルへ送給する送気手段と、水を霧化ノズルへ送給する送水手段とを備えてなることを特徴とするオゾン脱臭装置。

IPC (5)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/34 ZAB ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/78

FI (4)：

B01D 53/34 116 F ,  C02F 1/00 F ,  C02F 1/78 ,  B01D 53/34 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 地下空間空気の脱臭方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-081717   Applicant：西松建設株式会社, 株式会社ブイエムシー
• 特開昭55-034162