Pat

J-GLOBAL ID：200903071430610678

非晶質シリコン感光ドラムの成膜装置

Inventor： 樋口 永
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Agent (1)： 塩入 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991207437
Publication number (International publication number)：1993027465
Application date： Jul. 23, 1991
Publication date： Feb. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 非晶質シリコン感光ドラムの成膜に対して、複数の成膜領域を連続的に配置した成膜装置を提供する。【構成】 感光ドラム基体の外周に沿って、反応室を隔壁により複数の成膜領域に分割し、基体を回転させて、各成膜領域毎に独立した成膜反応を行う。

Claim (excerpt)：

非晶質シリコン感光ドラム用の基体を収容した反応室を、該基体の外周面に沿って隔壁により複数の成膜領域に分割すると共に、各成膜領域毎に独立して成膜を行う手段を設け、かつ前記の基体を回転させる手段を設けたことを特徴とする、非晶質シリコン感光ドラムの成膜装置。