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J-GLOBAL ID：200903071432630625

有機イリジウム化合物

Inventor： 内田 寛人 ,  齋 篤 ,  佐藤 正光 ,  小木 勝実
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995109541
Publication number (International publication number)：1996306627
Application date： May. 08, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 MOCVD法によるイリジウム薄膜及びイリジウム酸化物薄膜の形成に際し、気化速度が均一で、気化の際の熱安定性に優れ、しかも、室温で液体の、高純度イリジウム薄膜及びイリジウム酸化物薄膜形成用有機イリジウム化合物を提供する。【構成】 下記式(I)で表されるMOCVD法イリジウム薄膜及びイリジウム酸化物薄膜形成用有機イリジウム化合物。【化4】【効果】 立体障害の大きなメチル基をシクロオクタジエン環上に有し、これにより、イリジウム金属への分解反応を抑えているために、従来の有機イリジウム化合物よりも、安定した気化速度を得ることが可能になると共に、優れた揮発性及び熱安定性を示す。

Claim (excerpt)：

化学蒸着によってイリジウム又はイリジウム酸化物の薄膜を形成するための有機イリジウム化合物であって、下記構造式(I)で表わされる有機イリジウム化合物。【化1】

IPC (3)：

H01L 21/205 ,  C07F 15/00 ,  H01L 21/285

FI (3)：

H01L 21/205 ,  C07F 15/00 E ,  H01L 21/285 C