ポジ型感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998049811
Publication number (International publication number)：1999249292
Application date： Mar. 02, 1998
Publication date： Sep. 17, 1999
Summary：

【要約】【課題】 KRFエキシマレーザーなどの遠紫外線に対して高い透過率を有し、高感度(低露光エネルギー量)で効率良く酸を発生でき、かつ昇華性が小さく、優れた解像性能およびパターン形状をもたらしうる保存安定性に優れており、膜面荒れが小さく線幅制御が容易であり、微細加工に好適な感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】(A)式(1)【化1】[式(1)において、R1およびR2は1価の有機基であり、相互に同一でも異なっていてもよい。但しR1およびR2の少なくとも一方はエステル結合(-COO-)またはアルコール性水酸基を有する。]で表される感放射線性酸形成剤と(B)酸解離性保護基を持つアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性保護基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、とを含むポジ型感放射線性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

(A)式(1)【化1】[式(1)において、R1およびR2は1価の有機基であり、相互に同一でも異なっていてもよい。但しR1およびR2の少なくとも一方はエステル結合(-COO-)またはアルコール性水酸基を有する。]で表される感放射線性酸形成剤と(B)酸解離性保護基を持つアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性保護基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、とを含むことを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (2)：

G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

新規なスルホニルジアゾメタン化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-198953 Applicant：東京応化工業株式会社, ダイトーケミックス株式会社
化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-198979 Applicant：東京応化工業株式会社
化学増幅系レジスト
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-313190 Applicant：日本電気株式会社

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