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J-GLOBAL ID：200903071464431055

偏光素子の製造方法

Inventor： 松井 清 ,  新谷 真人
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994090166
Publication number (International publication number)：1995294730
Application date： Apr. 27, 1994
Publication date： Nov. 10, 1995
Summary：

【要約】【構成】本発明は、露光したPMMA膜を現像することにより鋸歯状の断面を持ったストライプ状パターンを基盤の上に作成する工程と、これから金属のスタンパーを作成する工程と、このスタンパーから多数のレプリカを作成する工程と、斜め方向から蒸着を行う工程と、透明保護膜をコーティングする工程とからなる金属グリッド型偏光素子の製造方法である。【効果】発明の製造工程によれば、ほとんど自動化できるため安価に作成することが可能である。

Claim (excerpt)：

金属グリッド型偏光素子の製造方法において、電子ビームの量を場所によって変化させ露光したPMMA膜を現像することにより鋸歯状の断面を持ったストライプ状パターンを基盤の上に作成する工程と、これから金属のスタンパーを作成する工程と、このスタンパーから射出成形、2P法などにより、多数のレプリカを作成する工程と、斜め方向から残留気体の平均自由行程が十分長くとれる程の高真空で蒸着粒子の平均自由行程が短くならないように蒸着膜の強度が低下しない程度のできるだけ低い蒸着レートで蒸着粒子の平均自由行程以下の距離で蒸着を行う工程と、透明保護膜をコーティングする工程とからなることを特徴とする金属グリッド型偏光素子の製造方法。