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J-GLOBAL ID：200903071494903083

高層建築物の汚水処理装置

Inventor： 新井 剛典
Applicant, Patent owner： アライ工業株式会社
Agent (1)： 鎌田 文二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994182124
Publication number (International publication number)：1996039082
Application date： Aug. 03, 1994
Publication date： Feb. 13, 1996
Summary：

【要約】【目的】 汚水浄化能力に優れた土壌浄化方法を利用した高層建築物の汚水処理装置を提供することである。【構成】 高層建築物Aの生活排水等を一次処理する浄化槽2を設置し、この一次処理水を高度処理する土壌浄化装置10を高層建築物Aの屋上又は敷地内に設置し、前記一次処理水を管路3を介して屋上の土壌浄化装置10にポンプアップするか又は管路3aを介して敷地内の土壌浄化装置10に供給し、これらの土壌浄化装置10による高度処理水を集水槽4に貯留して再利用するようにしたのである。

Claim (excerpt)：

高層建築物の地下又は敷地内に設置され、高層建築物の生活排水等を一次処理する浄化槽と、高層建築物の屋上又は敷地内に設置され、前記一次処理水を高度処理する土壌浄化装置と、前記一次処理水を土壌浄化装置に供給する手段と、高層建築物の屋上又は敷地内に設置された高度処理水の集水槽より成り、前記土壌浄化装置は、通気性、保水性の良好な土壌中に埋設されたトレンチと、このトレンチ上に配置されかつ周囲に礫状材を充填した汚水供給用多孔管と、前記トレンチの下方に設けられた通気層と、この通気層と外気を連通する給排気管と、通気層の下方に設けられた処理水の集水溝と、この集水溝の底部に配置された集水用多孔管より成り、この多孔管から前記集水槽に高度処理水を供給する手段を設けた高層建築物の汚水処理装置。

IPC (2)：

C02F 3/00 ,  C02F 3/34 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-110395
  
• 特開平2-191591
  
• 特開昭58-216782