Pat

J-GLOBAL ID：200903071508730853

リソグラフィ用レジスト

Inventor： グレゴリー・ディー・クーパー ,  ツィユン・チェン ,  ゴーネン・ウィリアムズ・サーピル ,  ラリー・エフ・トンプソン
Applicant, Patent owner： ピクセリジェント・テクノロジーズ・エルエルシー
Agent (4)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009519466
Publication number (International publication number)：2009543159
Application date： Jul. 06, 2007
Publication date： Dec. 03, 2009
Summary：

本開示は、2段技術を使用して非線形のリソグラフィ用レジストを提供する、多段可逆的光化学反応を伴う新しい経路を記載する。これらは、光の強度に二次で依存する露光を提供することができる。ナノ結晶を使用したいくつかの具体例も記載されているが、これらに限定されるものではない。これらのアプローチをダブルパターニングと組み合わせて回析限界以下の特徴密度を作製することができる。

Claim (excerpt)：

少なくとも1種のマトリックス材料と、 前記マトリックス材料によって担持されている少なくとも1種の光活性材料と を含むレジストであって、前記光活性材料が少なくとも1つの多段反応で化学種を生成し、前記化学種が前記レジストの溶解度を変化させ、前記化学種の生成が光の強度に非線形に依存しているレジスト。

IPC (3)：

G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  G02F 1/361

FI (4)：

G03F7/004 503Z ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 502C ,  G02F1/361

F-Term (13)：

2H125AF00P ,  2H125AG00P ,  2H125CA12 ,  2H125CB18 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125FA03 ,  2K002AA04 ,  2K002BA01 ,  2K002CA06 ,  2K002CA13 ,  2K002GA10 ,  5F046AA13