Pat
J-GLOBAL ID:200903071568152778

超純水製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 若林 忠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994128618
Publication number (International publication number):1995328693
Application date: Jun. 10, 1994
Publication date: Dec. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】 超純水を使用することにより発生する排水中のTOCを低濃度として超純水製造装置の前段側に戻すことにより、水の利用率を高めた超純水製造装置を提供する。【構成】 一次純水製造装置と、二次純水装置と、使用場所20で発生する排水のTOCを除去する回収装置とからなり、前記回収装置が生物処理装置26とオゾン供給装置28と紫外線照射装置30とを備える。
Claim (excerpt):
原水を処理して一次純水を製造する一次純水製造装置と、一次純水を処理して超純水を製造する二次純水製造装置と、該二次純水製造装置で製造した超純水を使用場所で使用することによって発生した排水を処理して一次純水製造装置に返送する回収装置とからなる超純水製造装置において、前記回収装置が生物処理装置と、その後段に設けたオゾン供給装置及び紫外線照射装置とを有することを特徴とする超純水製造装置。
IPC (8):
C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/78
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平3-232598
  • 特開昭62-087299
  • 特開平2-152589
Show all

Return to Previous Page