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J-GLOBAL ID：200903071578508520

刺激応答性多孔質高分子ゲル

Inventor： 竹岡 敬和 ,  渡邉 正義 ,  中山 大輔 ,  斉藤 尚
Applicant, Patent owner： よこはまティーエルオー株式会社
Agent (2)： 滝田 清暉 ,  下田 昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003073323
Publication number (International publication number)：2004027195
Application date： Mar. 18, 2003
Publication date： Jan. 29, 2004
Summary：

【課題】刺激応答速度が速く、体積収縮率も高く、しかも光学的特性を有する新規な多孔質構造の刺激応答性高分子ゲルを提供する。【解決手段】空孔が規則正しくさらに連続的に配列している構造を有する多孔質であることを特徴とする刺激応答性高分子ゲル。規則性を有する配列に充填された無機粒子を含浸させた状態で刺激応答性を有する高分子を得るための重合を行ない、その後、無機粒子を除外することで無機粒子に相当する空隙が規則正しく配列した高分子ゲルが得られる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

空孔が規則正しく配列している構造を有する多孔質であることを特徴とする刺激応答性高分子ゲル。

IPC (1)：

C08J9/26

FI (2)：

C08J9/26 101 ,  C08J9/26

F-Term (11)：

4F074AA50 ,  4F074CB03 ,  4F074CB13 ,  4F074CB22 ,  4F074CB27 ,  4F074DA03 ,  4F074DA05 ,  4F074DA13 ,  4F074DA14 ,  4F074DA53 ,  4F074DA59

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 連結されたミクロゲルの製造方法及びそれで処理された物品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-219480   Applicant：大日精化工業株式会社
• 連結されたミクロゲル粒子の製造方法及びそれで処理された物品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-197931   Applicant：大日精化工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 周期メソ多孔構造を有する構造色ゲルのグルコース応答性