ナノ構造化基体の光学的画像化

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 宍戸嘉一 , 村社厚夫 , 弟子丸健 , 井野砂里
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003578914
Publication number (International publication number)：2005521052
Application date： Jan. 10, 2003
Publication date： Jul. 14, 2005
Summary：

基体の表面上で生じる現象を画像化する方法は、流体を基体の頂面に接触させる段階と、液体が基体の頂面に接触した後、液晶が存在していない状態で基体を偏光を通して基体を観察することによって基体の頂面上で生じる現象を画像化する段階とを有する。基体の頂面は、異方性トポグラフィーを有し、偏光の波長は、基体の頂面の異方性トポグラフィーよりも大きい。

Claim (excerpt)：

基体の表面上で生じる現象を画像化する方法であって、 (a)流体を基体の頂面に接触させる段階を有し、基体の頂面は、異方性トポグラフィーを有し、 (b)流体が基体の頂面に接触した後、液晶の不在において基体を偏光を通して観察することにより基体の頂面上で生じる現象を画像化する段階を有し、偏光の波長は、基体の頂面の異方性トポグラフィーよりも大きいことを特徴とする方法。

IPC (4)：

G01N21/21 , G01N21/27 , G01N21/78 , G01N33/68

FI (4)：

G01N21/21 Z , G01N21/27 C , G01N21/78 B , G01N33/68

F-Term (39)：

2G045BA13 , 2G045BB11 , 2G045BB14 , 2G045DA36 , 2G045FA15 , 2G045GC11 , 2G045HA06 , 2G045JA01 , 2G054BB07 , 2G054CA21 , 2G054CA22 , 2G054CA23 , 2G054CE01 , 2G054EA10 , 2G054EB01 , 2G054FA34 , 2G054FB04 , 2G054GA03 , 2G054GA06 , 2G054GB04 , 2G054GB10 , 2G054JA04 , 2G054JA20 , 2G059AA05 , 2G059BB04 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059DD01 , 2G059DD13 , 2G059EE01 , 2G059EE05 , 2G059FF01 , 2G059FF03 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH06 , 2G059JJ18 , 2G059JJ19 , 2G059KK04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

検定用物体及び検定方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-226649 Applicant：コムテックリサーチユニットリミテッド, ペティグルーローバートマーチン
特開昭62-138708
顕微鏡的病原体の検出方法及び装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-560694 Applicant：ウイスコンシンアラムニリサーチファンデーション

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Cited by examiner (5)

検定用物体及び検定方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-226649 Applicant：コムテックリサーチユニットリミテッド, ペティグルーローバートマーチン
顕微鏡的病原体の検出方法及び装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-560694 Applicant：ウイスコンシンアラムニリサーチファンデーション
特開昭62-138708

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