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J-GLOBAL ID:200903071720177307

膜厚測定装置および膜厚測定方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997326095
Publication number (International publication number):1999160028
Application date: Nov. 27, 1997
Publication date: Jun. 18, 1999
Summary:
【要約】【課題】 膜構造を特定できない場合であっても膜厚を正確に測定をすることができる膜厚測定装置を提供する。【解決手段】 試料上の膜の膜厚を測定する膜厚測定装置において、試料の分光反射率である測定反射率を求める測定反射率算出部141と、想定される複数の膜構造を記憶する膜構造記憶部143と、膜構造記憶部143からの仮の膜構造と測定反射率とに基づいて仮の膜厚を求める仮膜厚算出部142と、仮膜厚から理論的に求められる分光反射率である理論反射率を求める理論反射率算出部144と、測定反射率と理論反射率との類似度を求める類似度算出部145とを設ける。そして、想定される全ての膜構造について類似度を求め、類似度が最も大きい膜構造の場合の仮膜厚を測定結果として出力する。これにより、膜構造が特定できない場合であっても正確な膜厚の測定が実現される。
Claim (excerpt):
試料上に形成された膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、前記試料に照明光を照射する手段と、前記試料からの分光された反射光を受光して受光信号を生成する受光手段と、前記受光信号に基づいて測定反射率を求める手段と、複数の膜構造に相当する情報を記憶する膜構造記憶手段と、前記測定反射率に基づいて前記複数の膜構造のそれぞれについての仮膜厚を求める手段と、前記複数の膜構造のそれぞれについて、前記仮膜厚に関する理論反射率を取得する手段と、前記複数の膜構造のそれぞれについて前記理論反射率と前記測定反射率との類似度を求めることにより前記膜の膜構造および前記膜の膜厚を特定する類似度算出手段と、を備えることを特徴とする膜厚測定装置。
IPC (2):
G01B 11/06 ,  H01L 21/66
FI (2):
G01B 11/06 G ,  H01L 21/66 P
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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