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J-GLOBAL ID：200903071795848010
しわたるみ消失化粧用材料
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
藤巻 正憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994045445
Publication number (International publication number)：1995258061
Application date： Mar. 16, 1994
Publication date： Oct. 09, 1995
Summary：
【要約】【目的】 皮膚の無理な引張及び極端な成膜がなく、肌荒れ及びシミ等の発生が防止され、穏やかな作用でシワを伸ばすことができると共に、顔等に塗った場合の違和感等が生じないしわたるみ消失化粧用材料を提供する。【構成】 デオキシリボ核酸を1.5乃至4重量%、コラーゲンを1乃至10重量%含有し、更に、保湿剤として2乃至10重量%のヒアルロン酸と、1乃至10重量%のキチン酸を含有し、ゲル形成基剤として0.5乃至2重量%のカルボキシビニールポリマーを含有する。
Claim (excerpt)：
デオキシリボ核酸及びコラーゲンを含有することを特徴とするしわたるみ消失化粧用材料。
IPC (2)：
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