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J-GLOBAL ID:200903071796856300

X線装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 横川 邦明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995202836
Publication number (International publication number):1997035891
Application date: Jul. 17, 1995
Publication date: Feb. 07, 1997
Summary:
【要約】【課題】 X線撮影を安定した撮影条件で繰り返して実行でき、しかも撮影条件の設定を迅速且つ正確に行うことができるX線装置を提供する。【解決手段】 X線発生部3から放射されるX線を被検査体Sに照射し、その被検査体Sを透過したX線でX線フィルム33を露光してその上にX線像を形成するX線装置である。X線発生部3に印加する管電圧の大きさ及びそのX線発生部3からのX線の発生時間を制御するX線制御部8と、被検査体Sの厚さとその被検査体Sに適するX線露出時間との関係を表した露出線図に対応するデータを記憶したメモリ9とを有している。X線制御部8は、露出線図に対応するデータに基づいて、管電圧の大きさ及びX線発生時間を制御する。
Claim (excerpt):
X線発生部から放射されるX線を被検査体に照射し、その被検査体を透過したX線でX線感応体を露光してそのX線感応体にX線像を形成するX線装置において、上記X線発生部に印加する管電圧の大きさ及びそのX線発生部からのX線の発生時間を制御するX線制御部と、被検査体の厚さとその被検査体に適するX線露出時間との関係を表した露出線図に対応するデータを記憶した記憶手段とを有しており、上記X線制御部は、露出線図に対応するデータに基づいて、管電圧の大きさ及びX線発生時間を制御することを特徴とするX線装置。
IPC (4):
H05G 1/32 ,  G21K 5/02 ,  H01J 35/00 ,  H05G 1/40
FI (4):
H05G 1/32 A ,  G21K 5/02 X ,  H01J 35/00 Z ,  H05G 1/40
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭58-116530
  • 特開昭58-116530

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