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J-GLOBAL ID：200903071863937337

熱処理装置

Inventor： 山本 博之 ,  齋藤 幸正
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 金坂 憲幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998236202
Publication number (International publication number)：2000068260
Application date： Aug. 24, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ガス供給系の全部位を均一に加熱して処理ガスの凝結を十分に防止し、処理ガスの安定供給を可能とする。【解決手段】 被処理体Wを収容した熱処理炉1内にガス供給系6により処理ガスを供給して所定の熱処理を行う熱処理装置において、前記処理ガス供給系6を処理ガスの凝結を起こさない所定の温度に保持された恒温槽16内に収容してなる。

Claim (excerpt)：

被処理体を収容した熱処理炉内にガス供給系により処理ガスを供給して所定の熱処理を行う熱処理装置において、前記処理ガス供給系を処理ガスの凝結を起こさない所定の温度に保持された恒温槽内に収容してなることを特徴とする熱処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/455 ,  C23C 16/448 ,  H01L 21/205

FI (4)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 D ,  C23C 16/44 C ,  H01L 21/205

F-Term (14)：

4K030AA11 ,  4K030CA04 ,  4K030EA01 ,  4K030GA02 ,  4K030KA25 ,  4K030KA41 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AD12 ,  5F045AE15 ,  5F045DP19 ,  5F045EC09 ,  5F045EE02