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J-GLOBAL ID：200903071905269470

不斉銅錯体結晶の製造方法

Inventor： 板垣 誠 ,  上玉利 正史 ,  萩谷 弘寿
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001041390
Publication number (International publication number)：2002241356
Application date： Feb. 19, 2001
Publication date： Aug. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】 不斉合成反応に有用な不斉銅錯体結晶の製造方法を提供すること。【解決手段】 一般式(1)(式中、R1およびR2はそれぞれ同一または相異なって、低級アルキル基、アラルキル基またはアリール基を表わす。ここで、低級アルキル基、アラルキル基またはアリール基は置換基を有していてもよい。X1はニトロ基、塩素原子または水素原子を表わし、X1がニトロ基のとき、X2は水素原子を、X1が塩素原子のとき、X2は塩素原子を、X1が水素原子のとき、X2はフッ素原子を表わす。また、*は不斉炭素原子を表わす。)で示される光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物と銅(II)化合物を有機溶媒中で反応させた後、晶析処理を行うことを特徴とする不斉銅錯体結晶の製造方法。

Claim (excerpt)：

一般式(1)(式中、R1およびR2はそれぞれ同一または相異なって、低級アルキル基、アラルキル基またはアリール基を表わす。ここで、低級アルキル基、アラルキル基またはアリール基は置換基を有していてもよい。X1はニトロ基、塩素原子または水素原子を表わし、X1がニトロ基のとき、X2は水素原子を、X1が塩素原子のとき、X2は塩素原子を、X1が水素原子のとき、X2はフッ素原子を表わす。また、*は不斉炭素原子を表わす。)で示される光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物と銅(II)化合物を有機溶媒中で反応させた後、晶析処理を行うことを特徴とする不斉銅錯体結晶の製造方法。

IPC (4)：

C07C249/02 ,  C07C251/24 ,  C07F 1/08 ,  C07M 7:00

FI (4)：

C07C249/02 ,  C07C251/24 ,  C07F 1/08 C ,  C07M 7:00

F-Term (21)：

4H006AA02 ,  4H006AC90 ,  4H006AD15 ,  4H006BB10 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BB14 ,  4H006BB17 ,  4H048AA02 ,  4H048AC90 ,  4H048AD15 ,  4H048BB10 ,  4H048BB11 ,  4H048BB12 ,  4H048BB14 ,  4H048BB17 ,  4H048VA12 ,  4H048VA20 ,  4H048VA30 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10