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J-GLOBAL ID:200903071931963872

高圧容器

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 唐木 貴男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993037309
Publication number (International publication number):1994225926
Application date: Feb. 03, 1993
Publication date: Aug. 16, 1994
Summary:
【要約】【目的】 液状被処理物を高圧処理する連続高圧処理装置において、小型容器でありながら流路の長い乱流状態を確保して均質で十分な処理を可能にする。【構成】 円筒本体2の上・下端を上蓋3と下蓋4とで密封して構成した高圧室2a内に小径の仕切り円筒7を設置し、被処理液の供給孔6a及び排出孔6bを下蓋4に設けると共に、同仕切り円筒7内及び同仕切り円筒7と円筒本体2との間に乱流促進板8を挿設することにより、被処理液は仕切り円筒7の内外を上昇、下降して乱流状態の十分な長さの流路を確保できる。
Claim (excerpt):
円筒本体の上・下端を上蓋と下蓋で密封して構成した高圧室内に小径の仕切り円筒を設置し、かつ供給孔及び排出孔を下蓋に設けると共に、同仕切り円筒及び同仕切り円筒と円筒本体との間に乱流促進板を挿設したことを特徴とする高圧容器。
IPC (3):
A61L 2/06 ,  A23L 1/01 ,  A23L 3/015

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