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J-GLOBAL ID：200903071957764827
高密度プラズマに使用可能な静電チャック
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993302845
Publication number (International publication number)：1994318566
Application date： Dec. 02, 1993
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：
【要約】【目的】 処理対象の部品をプラズマ室内で静電的に保持するとともに、冷却ガスがアーク放電やグロー放電による破壊を生じることなく、部品の下側に冷却ガスを供給する静電チャックを提供する。【構成】 上表面、冷却ガス搬送用の内部マニホルド(manifold)、および内部マニホルド(manifold)から上表面の向う第1の複数の穴を有する台と、台の上表面上に形成された誘電体層であって、上表面と第2の複数の穴とを有し、夫々の第2の複数の穴は夫々異なる台の中の前記第1の複数の穴の1つと一直線上に整列している誘電体層と、を備える。
Claim (excerpt)：
プラズマ反応室内での処理中にウエハを保持し、ガス冷却するための静電チャックであって、滑らかな上表面を有する金属製の台と、前記台の上表面上に形成された誘電体層であって、内部に冷却ガス供給用の溝網が形成され、冷却ガス供給用の前記溝網の溝の深さがその厚さよりも大きくはない誘電体層と、を備え、前記金属製の台は冷却ガスの供給用に1つ以上の内部空洞を有し、夫々の前記内部空洞は前記台の金属により前記誘電体層から分離される上端を有し、夫々の前記内部空洞は前記誘電体層へ通じる1つ以上の送り穴と前記台の金属の下張り層とを有し、1つ以上の前記溝に前記内部空洞を接続する、静電チャック。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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