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J-GLOBAL ID:200903071972111147

ルテニウム膜および酸化ルテニウム膜、ならびにその形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大島 正孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000375771
Publication number (International publication number):2002201162
Application date: Dec. 11, 2000
Publication date: Jul. 16, 2002
Summary:
【要約】【課題】 簡易な塗布・焼成方法で金属ルテニウム膜および酸化ルテニウム膜を形成することができる組成物、その組成物を用いた金属ルテニウム膜および酸化ルテニウム膜を形成する方法、その方法により形成される金属ルテニウム膜および酸化ルテニウム膜ならびにこれらの膜からなる電極を提供すること。【解決手段】 特定のルテニウム錯体を含有する溶液組成物。この溶液組成物の塗膜を、酸素を含有しない雰囲気下または酸素を含有する雰囲気下で、熱処理することにより、それぞれ金属ルテニウム膜または酸化ルテニウム膜およびこれらの膜からなる電極が形成される。
Claim (excerpt):
ルテニウムのβ-ジケトン錯体、ルテニウムのβ-ケトカルボン酸エステル錯体、β-ジカルボン酸エステル錯体、下記式(1)Ru(COT’)(COD’) ...(1)ここで、COT’は下記式(2)【化1】ここで、R1およびR2は互いに独立に水素原子または炭素数1〜5のアルキル基である、で表される配位子であり、そしてCOD’は下記式(3)【化2】ここでR3およびR4は互いに独立に水素原子または炭素数1〜5のアルキル基である、で表される配位子である、で表されるルテニウム錯体および下記式(4)R5COO- ...(4)ここでR5は水素原子、炭素数1〜18のアルキル基または炭素数2〜18のアルケニル基である、で表されるアシルオキシ基または下記式(5)-OOC-COO- ...(5)で表されるビスカルボキシラト基を有するルテニウム錯体よりなる群から選ばれる少なくとも1種のルテニウム錯体を含有することを特徴とする膜形成用溶液組成物。
IPC (14):
C07C 69/72 ,  C01G 55/00 ,  C07C 13/267 ,  C07C 49/92 ,  C07C 69/36 ,  C07C 69/716 ,  C07F 15/00 ,  H01B 1/22 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 503 ,  H01L 21/28 301 ,  H01L 27/105 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242
FI (13):
C07C 69/72 ,  C01G 55/00 ,  C07C 13/267 ,  C07C 49/92 ,  C07C 69/36 ,  C07C 69/716 Z ,  C07F 15/00 A ,  H01B 1/22 A ,  H01B 5/14 Z ,  H01B 13/00 503 Z ,  H01L 21/28 301 R ,  H01L 27/10 444 C ,  H01L 27/10 651
F-Term (36):
4G048AA02 ,  4G048AB05 ,  4G048AC06 ,  4G048AD02 ,  4G048AE08 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006AB91 ,  4H006BR10 ,  4H050AB78 ,  4H050AB91 ,  4H050WB11 ,  4H050WB13 ,  4H050WB21 ,  4M104BB04 ,  4M104BB36 ,  4M104DD51 ,  4M104DD78 ,  4M104DD81 ,  4M104DD86 ,  4M104GG05 ,  5F083AD60 ,  5F083FR01 ,  5F083JA04 ,  5F083JA14 ,  5F083JA15 ,  5F083JA38 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33 ,  5G301AA26 ,  5G301DA22 ,  5G301DD01 ,  5G307GA06 ,  5G307GA08 ,  5G307GC02 ,  5G323AA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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