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J-GLOBAL ID：200903071975460320

精密研磨剤

Inventor： 石川 伸行 ,  小林 雅秀 ,  山本 伸 ,  西倉 宏 ,  岡 洋一
Applicant, Patent owner： 多木化学株式会社 ,  株式会社テックス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994159130
Publication number (International publication number)：1996003541
Application date： Jun. 17, 1994
Publication date： Jan. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高精度に材料表面を研磨することができる精密研磨剤を得る。【構成】 2以上のカルボキシル基を有する有機酸を含有したアルカリ性酸化第二セリウムゾルからなる精密研磨剤を得る。この精密研磨剤は研磨精度が優れ、しかも研磨時の材料研磨面への残留が無いことから、高精度の材料研磨が要求される光エレクトロニクス分野での材料研磨に好適である。

Claim (excerpt)：

2以上のカルボキシル基を有する有機酸を含有したアルカリ性酸化第二セリウムゾルからなる精密研磨剤。

IPC (3)：

C09K 3/14 550 ,  B01J 13/00 ,  C09K 13/06 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 酸化第二セリウムゾルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-323864   Applicant：多木化学株式会社
• 特公昭44-023874
  
• 特開昭59-069932
  
• 特公昭44-023874
  
• 特開昭59-069932