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J-GLOBAL ID:200903072011529930

超純水供給装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三浦 進二 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991329796
Publication number (International publication number):1993138167
Application date: Nov. 19, 1991
Publication date: Jun. 01, 1993
Summary:
【要約】【目的】 一次純水製造設備から二次純水製造設備に到る配管や二次純水製造設備内の一次純水貯槽等による一次純水の再汚染の影響を少なくしてユースポイントに超純水を供給する。【構成】 二次純水製造設備内の一次純水貯槽9と限外濾過装置13の間に二次処理系の逆浸透装置8’を設け、それに伴い、その前に紫外線照射装置6’を設ける。【効果】 二次処理系の逆浸透装置がユースポイント14に近いので、再汚染の影響が少ない超純水を供給できる。
Claim (excerpt):
一次純水製造設備から流出した一次純水を貯留する二次純水(超純水)製造設備内の一次純水貯槽と最終段の限外濾過装置との間に逆浸透装置を設けたことを特徴とする超純水供給装置。
IPC (7):
C02F 1/44 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/18 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 ,  C02F 9/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平2-222763

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