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J-GLOBAL ID：200903072029035071

電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光用マスク

Inventor： 寺島 茂 ,  村木 真人 ,  松井 紳 ,  三宅 明 ,  奥貫 昌彦
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996283814
Publication number (International publication number)：1998135102
Application date： Oct. 25, 1996
Publication date： May. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】 露光領域の拡大を可能にした電子ビーム露光装置の提供。【解決手段】 第1物体からの電子ビームを縮小電子光学系を介して第2物体上に縮小投影する電子ビーム露光装置において、前記縮小電子光学系の軸を中心とした2つの円弧で挟まれた前記第1物体の円弧状領域からの電子ビームが前記投影光学系を通過する際に発生する収差を補正する補正手段を有する。

Claim (excerpt)：

第1物体からの電子ビームを縮小電子光学系を介して第2物体上に縮小投影する電子ビーム露光装置において、前記縮小電子光学系の軸を中心とした2つの円弧で挟まれた前記第1物体の円弧状領域からの電子ビームが前記投影光学系を通過する際に発生する収差を補正する補正手段を有することを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  G21K 5/04

FI (3)：

H01L 21/30 541 R ,  G03F 9/00 H ,  G21K 5/04 M