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J-GLOBAL ID：200903072106868774

平滑化処理方法及びそれにより得られる物品

Inventor：
岸本 好弘

About 岸本 好弘


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 金山 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002218728
Publication number (International publication number)：2004058415
Application date： Jul. 26, 2002
Publication date： Feb. 26, 2004
Summary：
【課題】プラスチックフィルム基材やその基材上に薄膜を形成した物品、及びガラス基板上に金属酸化物の薄膜を形成した物品において、それらの物品表面の凹凸を低減し、またプラスチックフィルム基材やガラス基板上にピンホールの無い、均一なガスバリア層が形成でき、また電気的導電性や発光特性を劣化させるような突起をなくし、表面が平滑な透明物品とその平滑化処理方法を提供する。【解決手段】チャンバー内に被加工物を配置し、チャンバー内に加圧状態のガスを噴出させて、断熱膨張によりガスクラスターを形成し、形成されたガスクラスターが電子を照射され、ガスクラスターイオンとなり、被加工物に該ガスクラスターイオンを照射して、被加工物の少なくとも片面を平滑化処理する方法で、被加工物が基材自体、基材上にガスバリア層を積層したもの、基材上にガスバリア層、透明導電層を積層したものの中の少なくとも一つである。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
チャンバー内に被加工物を配置し、チャンバー内に加圧状態のガスを噴出させて、断熱膨張によりガスクラスターを形成し、形成されたガスクラスターが電子を照射され、ガスクラスターイオンとなり、被加工物に該ガスクラスターイオンを照射して、被加工物の少なくとも片面を平滑化処理するもので、被加工物が基材自体、基材上にガスバリア層を積層したもの、基材上にガスバリア層、透明導電層を積層したものの中の少なくとも一つであることを特徴とする平滑化処理方法。
IPC (3)：
B29C59/16 ,  B32B7/02 ,  C08J7/00
FI (3)：
B29C59/16 ,  B32B7/02 104 ,  C08J7/00 302
F-Term (43)：
4F073AA10 ,  4F073BA24 ,  4F073BB01 ,  4F073CA51 ,  4F073CA64 ,  4F073HA10 ,  4F100AA17B ,  4F100AA17C ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100BA13 ,  4F100EJ51 ,  4F100JD02B ,  4F100JG01C ,  4F100JM02B ,  4F100JN01C ,  4F209AC03 ,  4F209AD04 ,  4F209AD05 ,  4F209AD08 ,  4F209AD20 ,  4F209AD32 ,  4F209AF16 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH54 ,  4F209AH73 ,  4F209AK03 ,  4F209PA15 ,  4F209PB02 ,  4F209PC16 ,  4F209PG05 ,  4F209PN20 ,  4F209PQ20 ,  4F209PW43
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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