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J-GLOBAL ID：200903072137513982
紫外光レーザーによる有機薄膜の製造方法及び装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
塩出 真一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993091947
Publication number (International publication number)：1994280024
Application date： Mar. 26, 1993
Publication date： Oct. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 エキシマレーザー等の紫外光レーザーを用いて、固体の原料有機化合物から有機薄膜を製造する方法及び装置を提供する。【構成】 反応チャンバー12内に固体の原料有機化合物13をターゲットとして配置し、この反応チャンバー12内を排気して減圧状態にした後、この原料有機化合物13に紫外光レーザーを照射し有機分子を励起・活性化させて、有機分子を飛び出させ、原料有機化合物13の対局に配置した基板16上に励起された有機分子を析出させる。
Claim (excerpt)：
反応チャンバー内に固体の原料有機化合物を配置し、この反応チャンバー内を排気して減圧状態にした後、この原料有機化合物に紫外光レーザーを照射し有機分子を励起・活性化させて、有機分子を飛び出させ、原料有機化合物の対局に配置した基板上に励起された有機分子を析出させることを特徴とする紫外光レーザーによる有機薄膜の製造方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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