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J-GLOBAL ID:200903072143848708

結像系、該結像系を備えた露光装置、前記結像系の使用方法、及び前記露光装置を用いたデバイスの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大森 聡
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998053274
Publication number (International publication number):1999251225
Application date: Mar. 05, 1998
Publication date: Sep. 17, 1999
Summary:
【要約】【課題】 アライメントセンサの対物光学系として使用できると共に、その結像特性の調整を短時間に、且つ高精度に行うことができる結像系を提供する。【解決手段】 光源21からの照明光で、視野絞り23等、照明リレーレンズ24、ハーフプリズム25、及び第1対物レンズ26を介してウエハW上のY軸のウエハマークWMYを照明する。ウエハマークWMYからの反射光L1を、第1対物レンズ26、ハーフプリズム25、及び第2対物レンズ27を介して撮像素子28の撮像面に集光し、その撮像面にウエハマークWMYの像を形成する。第1対物レンズ26の波面収差の特性を予め計測しておき、その波面収差が最も小さくなる方向をウエハマークWMYの計測方向(Y方向)に平行に設定する。
Claim (excerpt):
被検マークの像を所定の結像面上に投影する結像系において、前記結像系の少なくとも一部を、収差の特性が既知の光学系より構成し、該光学系の収差が実質的に最小になる方向を前記被検マークの計測方向に合わせることを特徴とする結像系。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G01N 21/88 ,  G03F 7/20 521
FI (5):
H01L 21/30 515 D ,  G01N 21/88 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 518

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