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J-GLOBAL ID：200903072155577173

パターン形成用3層積層被膜及びパターン形成方法

Inventor： 小嶋 大輔 ,  今井 玄児 ,  木暮 英雄
Applicant, Patent owner： 関西ペイント株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999126366
Publication number (International publication number)：2000321775
Application date： May. 06, 1999
Publication date： Nov. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】 パターン形成方法を提供する。【解決手段】 上層から順次、感エネルギー線被膜層(A)、フィルター層(B)及び感エネルギー線導電性被膜形成用樹脂層(C)を積層してなり、該被膜層(A)の上層表面から照射したエネルギー線をフィルター層(B)で吸収及び/又は反射することにより下層の感エネルギー線導電性被膜形成用樹脂層(C)のパターン形成に悪影響を及ぼさないようにエネルギー線を調製した3層積層被膜を有することを特徴とするパターン形成用3層積層被膜。

Claim (excerpt)：

上層から順次、感エネルギー線被膜層(A)、フィルター層(B)及び感エネルギー線導電性被膜形成用樹脂層(C)を積層してなり、該被膜層(A)の上層表面から照射したエネルギー線をフィルター層(B)で吸収及び/又は反射することにより下層の感エネルギー線導電性被膜形成用樹脂層(C)のパターン形成に悪影響を及ぼさないようにエネルギー線を調製した3層積層被膜を有することを特徴とするパターン形成用3層積層被膜。

IPC (8)：

G03F 7/095 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/11 502 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/40 501 ,  G03F 7/42 ,  H05K 3/02

FI (8)：

G03F 7/095 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/11 502 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/40 501 ,  G03F 7/42 ,  H05K 3/02 B

F-Term (57)：

2H025AA00 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025CC08 ,  2H025CC09 ,  2H025CC20 ,  2H025DA14 ,  2H025DA34 ,  2H025DA40 ,  2H025EA08 ,  2H025FA06 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA48 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096BA20 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096EA04 ,  2H096EA14 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  2H096KA07 ,  2H096KA08 ,  2H096KA14 ,  2H096KA15 ,  2H096KA16 ,  2H096LA02 ,  5E339AB05 ,  5E339BB02 ,  5E339BC01 ,  5E339BC05 ,  5E339BC10 ,  5E339BD07 ,  5E339BD11 ,  5E339BE05 ,  5E339CC01 ,  5E339CC02 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CE14 ,  5E339CE19 ,  5E339CF06 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD02 ,  5E339DD04 ,  5E339GG02