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J-GLOBAL ID：200903072170442489

合併処理浄化装置

Inventor： 石川 喜隆 ,  高野 功 ,  佐竹 純一郎 ,  高橋 亘
Applicant, Patent owner： ダイキ株式会社
Agent (1)： 新関 和郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996103303
Publication number (International publication number)：1997267097
Application date： Mar. 29, 1996
Publication date： Oct. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】 合併処理浄化装置において、前処理装置aのスクリーンを透過して浄化槽1内に流入してくる極く微細な繊維質状の浮遊固形物が、浄化槽1内に設置する浸漬型の膜処理装置2の限外濾過膜の膜表面に付着するようになるのを防止して、その膜の濾過能力を向上させる【解決手段】 合併処理浄化装置において、浄化槽1の汚水が流入してくる側に寄せた部位に、全面または一部を20〜80メッシュの格子網とした区画壁3を設け、その区画壁3により流入してくる汚水を受入れる浮遊固形物除去室Wを形成して、それの底部に曝気装置cを設け、その浮遊固形物除去室Wに対し隣接して前記区画壁3の格子網を介し連通する浄化槽1の他側部位を、膜分離室Yに形成して、その室Yの内部に膜処理装置2と曝気装置cとを設ける。

Claim (excerpt)：

浄化槽1の汚水が流入してくる側に寄せた部位に、全面または一部を20〜80メッシュの格子網とした区画壁3を設け、その区画壁3により流入してくる汚水を受入れる浮遊固形物除去室Wを形成して、それの底部に曝気装置cを設け、その浮遊固形物除去室Wに対し隣接して前記区画壁3の格子網を介し連通する浄化槽1の他側部位を、膜分離室Yに形成して、その室Yの内部に膜処理装置2と曝気装置cとを設けることを特徴とする合併処理浄化装置。

IPC (6)：

C02F 3/00 ZAB ,  B01D 61/18 ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ZAB ,  C02F 3/12 ,  C02F 3/30

FI (7)：

C02F 3/00 ZAB E ,  B01D 61/18 ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ZAB F ,  C02F 3/12 S ,  C02F 3/12 M ,  C02F 3/30